硅/半導體
甲基磺酸(MSA)高速電鍍錫是一種高效環保的鍍錫工藝。該工藝技術成熟，已經廣泛應用于美國等發達國家。中國近些年來在甲基磺酸(MSA)高速電鍍錫領域進行了大量研究，相繼建立了甲基磺酸(MSA)高速電鍍錫生產線，而離子交換膜是電鍍液質量的關鍵性因素。
離子交換膜電解法溶錫作為不溶性陽極電鍍錫線上新的錫補充技術，其高的錫利用率已得到業內人士的廣泛關注。今后離子交換膜電解法溶錫的整套裝置將成為基礎研究和工業應用的重點，有望大大提高不溶性陽極電鍍錫線的錫利用率，降低生產成本。
CCE是藍然專門為電鍍環境開發。其選擇性的透過Cu、Sn等離子，阻止其他添加劑組分通過，從而可以獲得良好的電鍍效果，通常也用于電鍍液的凈化。針對含有雙氧水等環境，則需采用全氟磺酸膜NS-260進行。
一些應用場景下，陽極需要溶解到溶液中制備電鍍液，如錫電解造液。此時，將陰離子交換膜覆蓋陰極表面，即可保證溶解下的金屬離子不在陰極析出。
藍然可針對電鍍行業的要求，特征性的提供的電鍍級的離子交換膜，并可根據客戶的工藝進行定制。
保證各種酸堿環境下仍能保持良好的穩定性。
極低的離子泄漏率，保證電鍍液的純凈。
*常規產品可參照離子交換膜CEP/AEP
保密。
